品牌导读：Allresist GmbH公司成立于1992年，经过28年发展，ALLRESIST开发，生产和销售用于光学和电子束光刻的抗蚀剂以及用于制造电子组件的相关工艺化学品，专业从事光刻工业所需电子化学品的研发、生产和销售，总部位于德国。开发，生产和用于光学和电子束光刻以及与这些抗蚀剂的电子元器件的制造相关联的相应处理的化学品分配抗蚀剂。德国ALLRESIST主要产品包括：Allresist光刻胶、Allresist电子束光刻胶等，公司通过了ISO9001产品质量管理认证和ISO14001环境管理体系认证。华联欧小编今天为大家带来的内容是ALLRESIST,德国ALLRESIST光刻胶,ALLRESIST电子束光刻胶，希望大家喜欢，接下来我们一起去看看吧!

一、ALLRESIST公司简介
ALLRESIST GmbH回到六十年代的根源。在“Fotochemische Werke柏林”(ORWO),研究项目启动了复印涂料的发展。已经在1965年,第一个工作光致抗蚀剂的基础上肉桂酸用于生产的晶体管。年代,开发工作力度和研究部门扩大到100名员工。大规模生产的新生产设施成立于1987年,生产和改进版本的抗拒这个设施仍ALLRESIST今天提供的。在1992年试图抵制生产私有化后失败了,部门被关闭。他们在光刻胶开发方面的经验基于悠久的传统。作为柏林世界摄影博物馆的衍生产品，他们可以借鉴30多年的研究成果。Allresist成立于1992年10月16日。您可以在这里找到他们过去二十年的研究项目。

欢迎使用ALLRESIST-摄影和电子束抗蚀剂专家。ALLRESIST开发，生产和销售用于光学和电子束光刻的抗蚀剂以及用于制造电子组件的相关工艺化学品。可抵抗所有大小的光刻和电子束光刻的所有标准工艺。交货时间短，小巧的1/4升容器，低价的测试样品以及专业的建议是他们服务的一部分。10位高素质，敬业的员工结合了能力和创新精神，致力于公司的理念：只有满意的客户和员工才能获得市场成功。您可以在此处找到有关他们的环境和质量政策的更多信息。唯一可能的方式保存非常抵制技术是成立一个新的大,小,高生产力的公司——ALLRESIST GmbH。

二、ALLRESIST产品介绍
1、ALLRESIST AR-P 5300剥离技术光刻胶系统
①AR-P 5300系列的正型光刻胶用于通过剥离技术生产底切结构(剥离)，以生产气相沉积图案，尤其是金属。底切轮廓是在通常的光刻工艺中获得的，而无需额外的技术，时间和能源消耗。
②该抗蚀剂的特征在于对光的高灵敏度，优异的分辨能力以及对金属和氧化物表面的良好粘附性。它们包含在加热板上和对流烤箱中正常回火期间会硬化抗蚀剂表面的成分。
③抗蚀剂结构的底切在碱性水溶液显影期间形成。虽然AR-P 5350在1-2μm的标准层厚度范围内使用，但新开发的抗蚀剂AR-P 5320也可用于创建5-10μm的剥离结构。
④抗蚀剂由安全溶剂-溶剂混合物中的酚醛清漆-萘醌二叠氮化物-与主要成分1-甲氧基-2-丙基-乙酸酯组成。

2、ALLRESIST光阻AR-BR 5400
①首先，涂覆PMMA共聚物AR-BR 5400。
②然后将光致抗蚀剂AR-P 3510施加到退火的共聚物层上。
③可以以碱水溶液的方式显影两层浮渣系统。将抗蚀剂溶解在更安全的溶剂-溶剂混合物中。
④AR-BR 5400抗蚀剂是基于甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸的共聚物，主要成分为1-甲氧基-2-丙醇。
⑤AR-P 3510是一种线型酚醛清漆-萘醌二叠氮化物的组合，主要存在于乙酸1-甲氧基-2-丙酯中。

3、ALLRESIST产品电子束抗蚀剂AR-PC 5090和AR-PC 5091(Electra 92)
①保护涂层AR-PC 5090和AR-PC 5091(Electra 92)是导电保护涂层。
②它们的功能是创建薄的导电层。
③AR-PC 5090设计用于PMMA-E-Beam，CSAR 62和HSQ抗蚀剂，而AR-PC 5091可与基于Novolak的E-Beam抗蚀剂一起使用。两者都主要用于导出电子辐射产生的电荷。
④抗蚀剂通过旋涂施加。取决于旋转速度，所得层厚度为30-80 nm，喷砂后用去离子水去除该层。这些解决方案的保质期超过一年。
⑤抗蚀剂由聚苯胺，表面活性剂和水/醇的混合物组成。

三、ALLRESIST主要产品和型号
1、ALLRESIST主要产品
①德国ALLRESIST光刻胶
②德国ALLRESIST电子束光刻胶
③德国ALLRESIST光致抗蚀剂
④德国ALLRESIST电子束抵制
⑤德国ALLRESIST紫外光刻胶

2、ALLRESIST产品型号
①德国ALLRESIST产品电子束抗蚀剂AR-PC 5090-5091（Electra 92）
②德国ALLRESIST产品电子束抗蚀剂50K，200K，600K，950K
③德国ALLRESIST产品电子束抗蚀剂AR-P 6200（CSAR 62）
④德国ALLRESIST产品电子束抗蚀剂AR-P 6500
⑤德国ALLRESIST产品电子束抗蚀剂AR-P 7400
⑥德国ALLRESIST产品电子束抗蚀剂AR-N 7500、7520
⑦德国ALLRESIST产品电子束抗蚀剂AR-N 7700、7720
⑧ALLRESIST光刻胶ARP 672.11
⑨德国ALLRESIST光刻胶AR-P 1200，AR-N 2200
⑩德国ALLRESIST光刻胶AR-P 3100
⑪德国ALLRESIST光刻胶AR-P 3200
⑫德国ALLRESIST光刻胶AR-P 3500（T）
⑬德国ALLRESIST光刻胶AR-P 3700、3800 VLSIC

四、德国ALLRESIST光刻胶产品特点
1.光刻胶类型齐全，可以满足用户的各种工艺要求。
产品类型包括:紫外光刻胶(正片或负片)、剥离工艺胶、LIGA胶、图案反转胶、化学放大胶、抗蚀保护胶、聚酰亚胺胶、全息曝光胶、电子束光刻胶(包括聚甲基丙烯酸甲酯胶、电子束负片胶、三维曝光胶(灰色曝光胶)、混合曝光胶等。)
2.光刻胶封装规格灵活多样，适合各种规模的生产和科研需求。
包装规格包括:250ml、1l、2.5l等常规包装，以及30ml、100ml等测试用小包装。
3.交货时间短。
我们在每个月的20号左右向德国制造商下订单。产品将在第二个月中旬到达。你可以根据实际情况合理安排采购时间。请联系我们的销售人员了解订单详情。
4.它可以提供高水平的技术咨询服务，并有能力为特殊和复杂的工艺开发和定制光刻产品。
5.储存条件:
储存在一个封闭的容器中，并放在一个黑暗、干燥、凉爽、通风良好的地方。储存在合适的温度下。

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